2023年11月30日发(作者：)
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IRIS Intrepid系列ICP初级操作
在初级操作中, 我们主要是了解和掌握最基本的分析全过程，其
中包括如何开机预热, 编辑基本分析方法, 点燃等离子体,以及如何
分析样品，处理结果，打印报告等, 从而完成一些简单的日常分析任
务。
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一． 日常操作
1. 开机预热
2. 制定分析方案
3. 编辑分析方法
4. 点火操作
5. 谱线校准
6. 建立标准曲线并分析样品
7. 熄火并返回待机状态
8. 完全关机
二. 常见故障与排除
三. 日常维护
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一. 日常操作
1、 开机预热
1) 确认有足够的氩气用于连续工作。（储量≥1瓶）
2) 确认废液收集桶有足够的空间用于收集废液。
3) 打开氩气钢瓶的总开关（开到最大），并调节分压在0.5—
0.7Mpa之间。
4) 打开稳压电源开关，检查电源是否稳定，观察约1分钟。
5) 打开主机电源。（右侧下方红色刀闸）注意仪器自检动作。此
时光室开始预热。
6) 打开电脑，待自检完成后，双击“TEVA” 图标，进入操作软
件主窗口,单击右下脚点火图标，进
入等离子体控制面板，检查通讯及连锁保护开关是否正常。
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若有红灯警示，则需要作相应的检查。如果一切正常，可进行下一步
操作。
2、 制定分析方案
1) 确定样品是否适用于ICP分析。
ICP主要以常量和微量分析为主，在没有基体干扰的情况下，
样品溶液中元素的含量一般不应小于5*DL(检出限)，在有基
体干扰的情况下，样品溶液中元素的含量一般不应小于
5*5*DL。
2) 确定样品分解方法（溶样方法）
确保所测的元素能够完全分解，并溶解在溶液中。
尽可能用HNO
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或HCL分解样品。
尽量不用HSO和HPO，会降低雾化效率。
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如果用HF酸的话，一定要赶尽，以避免损坏雾化器和影响B、
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Na、Si、Al等元素的测定。
3) 配制工作曲线（混标）
浓度之间相差2—5倍
一般用2—3点
两个常见错误: a).所有分析元素的浓度都一致, 这样省事, 但
不科学, 应该根据不同元素的浓度范围, 制
定其相应的标准溶液浓度。
b).标准曲线点与点之间相隔太近, 如2, 4, 6,
8…,完全没有必要。
4) 样品准备：
样品必须消解彻底，不能有混浊, 否则必须先用滤纸过滤, 但
不要抽滤
对于标准雾化器，样品溶液中固溶物含量要求≤1.0%
3、 编辑分析方法
1) 操作软件（TEVA）主窗口包括两个应用程序：
1> Analyst—分析模块
2> Publisher—报告模块
2) 编辑分析方法:
1> 单击Analyst 进入分析模块，单击Method → New… ,
选择所需的元素及其谱线。
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2> 单击Method → Analysis Preferences，设置重复次
数，样品清洗时间，积分时间。
3> 点击Automated Output，选择Store results to data
base，并点击Apply to all sample type。
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4> Report Preferences → 忽略
Checks → 忽略
Sequence Automation → 忽略
5> 点击Source Settings，设置清洗泵速和分析泵速，
RF功率，雾化器压力和辅助气流量。
清洗泵速和分析泵速一般设定在80—130rpm之间
RF功率通常设定为1150W
雾化器压力根据需要一般设定在24—32PSI之间
辅助气流量一般设定为0.5lpm
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6> Internal Standards → 忽略
7> 点击Standards，可添加和删除标准，选择标准中所
含有的元素及其所需的谱线，设置和修改元素含量。
8> 单击Method → Save，输入方法名，点击OK，方法编
辑完成。
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4、 点火操作
1) 确认光室温度稳定在90±0.5F。
2) 再次确认氩气储量和压力（0.5—0.7Mpa），并驱气至少30分
钟，确保CID检测器不会结霜。
3) 检查并确认进样系统（矩管、雾化室、雾化器、泵管等）是否
正确安装。
4) 上好蠕动泵夹，把样品管放入蒸馏水中。
5) 开启排风。
6) 单击右下脚点火图标，打开plasma
status对话框，点击Ignite… →Ignite，进行点火操作。
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7) 待等离子体稳定15-30分钟后，即可开始测试样品。
5、 谱线校准
1） 将样品毛细管放入待测标准溶液中(其浓度视谱线灵敏度而
定，通常采用浓度为1ppm—10ppm的单元素标准溶液)。
2） 打开任意一方法，点击Run Full Frame图标，打开如下对话
框，根据谱线波长选择Uv（紫外波长）或Vis（可见波长）（切
换波长为238nm），设定曝光时间，并点击Run。此后，将得
到一幅全谱谱图。
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3） 添加所需元素及其谱线。
例如添加Cu224.700（150），点击Analytical Elements前面
的→ 点击Cu前面的→ 选择Cu224.700（150）右击鼠
，
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标 → Add Wave Length to Method，谱线Cu224.700（150）
即会添加到全谱谱图中。接下来，按住Ctrl键的同时，点击
谱线框，把虚线框的中心移动到亮点的中心，松开手，即会弹
出对话框，点击yes进行确认。谱线校准即告完成。此谱线可
用于定量分析。
注: 未经校准的谱线，不能用于定量分析。
6、 建立标准曲线并分析样品
1) 通过Method → Open… → 选择分析方法，并确认所测元素
的谱线都经过校准。（可用高标拍摄全谱谱图进行确认）
2) 点击标准化图标，打开标准化对话框如下所
示，依次运行标准溶液，点击 Done 标准化完成。
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3) 双击样品名称，即可打开Subarray谱图（样品谱图可叠加），
察看谱峰是否有干扰，某些干扰可通过移动谱峰和背景的位置
来消除干扰。需要点击Apply to Sample和 Update to Method
应用于样品和更新方法，并点击分析方法名123右击鼠标，选
择Post-process Selected Sample 对样品进行后处理，以确
认位置的改变。
4) 通过Method → Elemental → 谱线和级次 → Fit，察看谱
线的线性关系和相关系数。以确定该谱线是否可用。如果没问
题，就可点击未知样图标分析样品。
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7、 熄火并返回待机状态
1） 分析完样品后，用蒸馏水冲洗5—10分钟，点击Shutdown熄
灭等离子体，松开泵夹。
2） 通过点击TEVA主界面下的Tools → CID Temperature来观
察CID的温度，当温度回升到20℃后，即可关闭氩气。
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8、 完全关机
当仪器长期停用时，可关闭仪器主开关（红色刀闸）。
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二、 常见故障与排除
问题一：点火失败
PLASMA点燃的过程
• 启动+48V（冷却风机工作）；打开雾化气、辅助气、冷却气（驱除炬管中的
空气）。
• 驱气90秒，先关闭雾化气，启动高压，点火头工作，RF发生器提供点火功率
(Ip=160--200mA)。
• PLASMA点燃，点火头停止工作，RF功率切换到1500W，AGC工作。
• PLASMA 工作参数切换到点火设定参数(1150W、30psi、low Axu.、100rpm )
原因1：
在点火期间（5秒），检查Ip=160—200mA ，如果没问题：
1> 更换确认是好的氩气；适当增加驱气时间？
2> 检查点火头位置(紧靠炬管标志红线)和工作是否正常（放电声）？
3> 检查进样系统是否漏空气（雾化室、雾化器、泵管、毛细管等连
接处、O型圈）？
4> 工作线圈位置（同心、高度=1 5/16“）?
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原因2：
1) 如果连续几次点火，Ip均》 500mA 而没有点燃PLASMA，则说明功
率单元的匹配有问题或存在局部打火。 Call TJA
2) 如果Ip= 120--150mA ，则说明点火功率设置太小。 Call TJA
3) 如果Ip~30mA说明Ip 仅是高压漏电流，而没有RF功率，检查+48V？
Source?和driver?（只有在RF启动状态时才有+48V）；如果没有48V，
则可能需更换+48V的 fuse。若+48V 没问题，检查Source?和driver? Call
TJA
4) 如果Ip~0mA ，则检查Vp=3800V？如果没有，则说明高压加不上（连续
两声）。Call TJA
原因3：
高压加不上的原因
从POWER UNIT上拔除高压插头，再试：
1> 如果高压仍加不上，则主要是电网、稳压电源的问题，（也可能
仪器高压的问题。 Call TJA
2> 如果能加上，则主要是仪器上一高压接头击穿。Call TJA
原因4：
Plasma点燃后又熄灭
1) “No Plasma Detecded”说明光监控有问题—清洗光纤或炬管
2) “Plasam gone out”则：
1> 进样系统漏空气（3秒内）
2> 1550W挡有问题 Call TJA
3> 设置的点火后RF功率（1150W）有问题 Call TJA
问题二：点火后提示雾化气压力设置错误。
原因：可能是由于开机自检时，没有打开氩气造成此错误。
处理：首先熄灭等离子体，做HardRest（按下位于仪器主板上的红色按钮），
或者关闭仪器主机电源，1分钟后重新打开仪器主机电源。（注意观
察仪器自检时，雾化器压力表的变化。）
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三、 日常维护
1. 每次点火前检查蠕动泵泵管, 确保无损伤或磨损过度。
2. 检查雾化器, 看是否被堵。
3. 定期清洗炬管, 中心管。
4. 定期清洗两个空气过滤网。
5. 定期更换循环水。
6. 定期检查排风风量, 以确保风力充足。
7. 定期检查地线, 以确保小于4欧母。
8. 定期检测零线与火线之间的电压, 确保在点火状态下小于交流5
伏。
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IRIS Intrepid系列ICP中级操作
在完全掌握初级操作的情况下，通过熟悉中级操作可以进一步了
解仪器的各项功能，使你在分析过程中得心应手，游刃有余。
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一、 谱线添加及其校准
二、 背景及干扰元素校正
三、 质量控制及极限检查
四、 先进的分析功能
五、 优化分析条件
六、 添加数据库
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一、谱线添加及其校准
在光谱仪出厂之前，技术人员以及TJA服务专家已在光谱仪中
对许多谱线进行了校准，由于运输过程产生振动，可能造成谱线漂移，
所以建议您在使用之前，需要对所有有用的谱线重新进行校准，为以
后分析创造方便条件。
在谱图中相同的谱线拥有不同的级次，因此，不仅要确定谱线的
波长，还要确定谱线的级次。波长以(nm)计量，级次在波长之后的{}
中。
IRIS光谱仪装有两个狭缝，Uv用于较短的波长，Vis用于较长
的波长。通常在分析时，尽量采用Uv上的谱线进行测定，不出现在
Uv上的谱线则由Vis上的谱线进行测定。
谱线添加及其校准所需步骤：
1. 点燃等离子体，使光谱仪充分预热。
2. 添加所需的元素谱线和级次，删除无用的谱线。
3. 确认所需的谱线和级次已在元素周期表中列出。
4. 待光谱仪稳定。
5. 采集全谱谱图。
6. 检查原先校准过的谱线是否满意。
7. 校正元素谱线框的位置。
譬如以锡为例，需要10ppm的纯锡标准溶液和空白溶液。（通常
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采用单一元素进行谱线校准，复杂的标准增加光谱的复杂性，使谱线
校准更困难。）
在分析模块中点击Method → New… → 右击鼠标选择Sn → Edit
map for Sn…，即打开对话框。（如图所示）
在此对话框含有锡元素的谱线以及每条谱线的详细资料，包括谱
线与级次、所属波长范围、谱线在CID检测器中的坐标位置、谱峰
状态（是否经过校准）、谱线状态（I代表原子谱线，II代表离子谱线）、
相对强度、用于分析的谱线和为新方法自动选择的谱线。通过点击
谱线，才能出现在元素周期表中，用于定量分析。 谱线与级次选取的原则： 1. 对于微量元素的分析，要采用灵敏线，对于高含量元素的分析， 要采用弱线。 2. 删除行或列小于10或大于502的任意谱线。 3. 相同的谱线具有不同的级次，不同的级次其强度亦不同，利用 23 谱线的列信息，选取落在靠近检测器中心位置的谱线与级次。 （256列是检测器的中心）对于强度接近的同一谱线的两个级 次，有时取两者的平均值，用这种方法可提高结果的精密度。 按照初级操作所述拍摄10ppm锡溶液和空白溶液的全谱谱图（将 最大积分时间设定为5秒，为了看到较为不明显的谱线，可增加积分 时间），并将所需要的谱线添加到谱图中。 通过与空白溶液对比来对确认锡的谱峰是非常有益的。同时还可 以通过差减法来得到扣除空白溶液后的谱图。选择Sn-uv谱图右击鼠 标 → Subtract Full Frame → 选择空白溶液谱图 → OK即可。 采用拖拉的方法对谱峰进行校准： 1. 将光标移动到谱线框内。 2. 同时按下 3. 将光标移到最亮的检测单元上，即 24 4. 松开鼠标键及 5. 单击 6. 击 对其它谱线重复这一过程，即可一一校准。 创建谱线 在某些情况下，需要将一条谱线库中不存在的谱线添加其中。其 过程如下： 1. 找到波长表的可靠设定值以确保您选择的谱线有正确的波长。 2. 在对话框中，点击Add Lines…，打开如下对话 框，点击Create…输入波长，点击OK，按前面方法进行校准 即可。 25 二、背景及干扰元素校正 在此主要介绍背景校正位置的选取、干扰元素的鉴别及干扰元素 校正系数的计算。 1> 背景校正 对于ICP光谱仪来说，基体匹配是最理想的，但在很多情况下， 都是不现实的。由于样品之间的成分不同、样品与标准之间的成分不 同、连续光谱以及谱线拖尾都可能导致背景干扰，因此要得到正确的 26 分析结果，背景校正就显得非常重要。 下图表明一个1ppm样品不同基体时的两个谱峰。（许多元素可能 造成这种背景移位） 如果不实行背景校正，则在每个峰值中心位置确定的原强度被用 于计算浓度。较高的峰值比未受镁影响的峰值获得较高的分析结果。 对于这种背景来说，背景校正是必需的。 背景校正消除了由于背景抬高所带来的干扰。浓度是以净强度为 基础计算的。 净强度＝原强度－背景强度 在选择背景位置时，应遵循： 1） 将背景位置定在尽可能平坦的区域（无小峰）。 2） 将背景位置定在离谱峰足够远的地方，从而不受谱峰两 翼的影响。 3） 左背景、右背景以及左右背景强度的平均值尽可能与谱 峰背景强度一致。 TEVA软件对于谱峰位置和宽度，以及背景位置和宽度的选择更 加方便，可以通过按住鼠标左键移动鼠标来改变谱峰和背景的位置， 27 也可以通过按住鼠标左键移动双箭头来改变谱峰和背景的宽度。 下面几个背景校正的实例，仅供大家参考。 （P213.618背景校正） 28 （Zn202.548背景校正） 29 2> 干扰元素校正 1、 在Subarray谱图上鉴别未知峰 TEVA软件允许您在Subarray谱图上鉴别未知峰，首先点击 Wavelength Finder图标，打开如下图所示的波长谱线框，然后在未知 峰的位置点击鼠标左键。波长谱线框中就会列出未知峰±0.1nm内存 在的所有谱线及其相对强度，根据您对样品的了解和谱线的相对强 度，来鉴别可能产生谱峰的元素。 （元素间干扰的Subarray图） 2、 确定干扰元素 如果您没有把握弄清哪个元素产生谱线干扰，那么： 1) 检查元素周期表中的“谱线信息”列表，看是否有潜在的谱 线干扰。 2) 在列表中挑出您的样品中最可能存在的元素。 3) 配制一套单元素的标准溶液，使其浓度接近样品的含量。 30 4) 将每一个标准溶液作为未知样进行分析。 5) 观察其Subarray谱图，确定哪个元素的谱峰与测定元素的谱 峰相重叠或部分重叠。 6) 即可确定哪个元素对测定元素产生干扰。 3、 计算干扰校正系数 以下图为例：B溶液作为测定A的未知样品时，得到的Subarray 谱图。从中可以看出，B的谱线和A的谱线部分产生重叠。因此，在 样品中含有B时，测定A的结果就会偏高。 在某些情况下，干扰可能会很小，它还可能通过减小谱峰的测量 宽度或者改变谱峰的测量位置来进一步降低干扰。在分析低浓度的样 品时，还可以通过将谱峰的测量宽度减少到两个甚至一个，来改善分 31 析结果。它除了减少光谱干扰的作用之外，常常可导致分析信号的强 度增加。但是，谱线可能更易受到谱线漂移的影响，在恶劣的实验室 条件下尤为突出。 干扰元素校正系数（IEC’s） 当采用ICP光源时，一般就可假设，所测得的干扰元素浓度与它 向分析元素所贡献的浓度是成正比的，而其比值为一常数，称为K， 1 此常数可以通过光谱仪进行测定。 1） 分别配制一套分析元素和干扰元素标准溶液并对其进行标 准化。 2） 将干扰元素的标准溶液作为未知样进行分析。 3） 同时得到干扰元素浓度和干扰元素为分析元素所贡献的浓 度。 4） 计算K＝干扰元素为分析元素所贡献的浓度／仪器确定 1 的干扰元素浓度。 例如干扰元素B的标准溶液（100ppm）在A309.271nm处进行分 析时，测得A浓度为8.4ppm，在同样的分析中，B测得的浓度为 100.4ppm。由于在B标准溶液中没有A，(要仔细检查A的其他灵敏 线以确保这一点是真实的)，所以报告中A的浓度是由于B的干扰造 成的，其干扰校正系数K=8.4/100.4=0.08367。 1 在得到干扰校正系数K后，还需把它输入到方法中去。 1 点击Method → Elements → A309.271(85) → IEC’s → Add IEC’s…→ 选择干扰元素B → OK,在K处输入求得的系数即 1 32 可。从此时起，分析方法中B对A的干扰将被扣除。 注：只有在方法中选择的元素才能被用于进行元素干扰校正，也 只有在方法中被选择的元素才出现在周期表中。 33 三、质量控制及极限检查 质量控制（QC）及极限检查（LC）表是向操作人员提供光谱仪 运行情况或反馈样品质量情况的有效工具。 质量控制（QC）所用样品为标样，对它们进行频繁地分析，以确 保光谱仪产生的结果正确无误。运行QC标样前，需要建立一个QC 检查表，表内包括QC标样所含元素、浓度以及可接受的范围，任何 超出该接受范围的结果均将用 操作人员或者自动进样器就可以作出决定来重新进行标准化以及／ 或者重新运行QC标样。 极限检查（LC）应用于未知样品，极限检查表包括元素列表以及 每一元素所确定的上下限，对于超出该界限的结果进行标记。 编辑QC检查表 在分析模块中，点击Method → Check → New…，打开New Check Table 对话框，如下图所示： 1） 选择Check Type为QC 2） 图中所示参数均为缺省值。每个元素的实际值及范围均可在 后面予以设定。 ． 3） 在Std Normalization 选项框内有三种选择： ．选择 34 的系数进行修正。 ．选择 化曲线的斜率进行修正 ．选择 对标准化曲线的截矩进行修正。 4） 点击OK继续往下进行，QC编辑程序对话框自动填充，显 示如下。 在此可以选择元素，并对元素的含量、范围以及标准化方式进行 35 编辑或选择。QC检查表编辑完成。 运行QC检查表 在分析方法标准化后，点击QC图标，则打开如下对话框。 在Table框内，选择QC-1标样，然后点击Run，来运行它。 利用QC标样对工作曲线进行校准 选定QC标样 → Results → QC Actions → Normalize Slope， 通过斜率对工作曲线进行校准。 36 极限检查（LC）表 LC被用来检查样品是否符合规格要求，而QC是用来监测仪器性 能的。编辑和运行LC检查表同编辑和运行QC检查表相似。在此不 再赘述。 37 四、先进的分析功能 IRIS系列光谱仪除了初级操作中所介绍的基本功能之外，还提供 几种先进的分析功能。 标准加入法 标准加入法（MSA）要求样品被分成2到4份溶液，一种溶液用 去离子水或适当的酸稀释，另外的1到3份溶液用各种不同浓度的标 准溶液进行稀释，值得注意的是，所有的溶液稀比率均应严格一致。 也就是说，样品可以用酸1∶1稀释，5，10和15ppm的标准溶液进 行稀释。采用这样的方法后，对于所有的溶液而言，样品的稀释比率 均保持相同，而分析元素的浓度则逐渐增加。 背景校正的位置对MSA来说特别重要。对于所有的溶液而言， 背景强度可以预计都是一样的，因为它们都有相同的基体，唯一不同 之处是添加的标准溶液的谱峰。任何未被校正的背景均会被MSA演 38 算方法解释为化学分析的信号。 运行标准加入法 为执行MSA分析，点击Run Unknown图标，打开未知样对话框。 点击MSA…，打开如下对话框。在此对话框内，您可以输入 Sample_k#浓度，并运行它们。不需要运行所有的4个Sample_k#， 在运行了2个Spike#后，您可以在任何时候点击 来结束该分析工作，并报告分析结果。 39 输入Sample_k#样品浓度，可点击 就打开。 通过在被改变的值上面点击鼠标，可以改变每个Sample_k#元素 的浓度，点击 个Sample_k#，运行完所有样品，点击 最终结果就会被计算出来。 40 内标法 在ICP光谱中，使用内标是很平常的事，它能补偿一些光谱漂移 带来的干扰，因此能改善长期精密度。内标元素应该是在任何采用内 标法测定的样品中都不含有的，并要按恒定的量加到包括空白溶液在 内的所有溶液中去，通过使用TJA内标混合器（部件号136708－00）， 如下图所示，可大大地简化该过程。它采用了两根蠕动泵管，桔黄色 ／绿色代表内标管，桔黄色／桔黄色代表样品管，内标管进样量大约 相当于样品管进样量的20％。 按以下步骤建立内标法： ．选择内标元素。最长用的元素为Y，因为它通常不会出现在典 型的样品中。确定将要采用的内标元素的谱线。请记住：一般 来说分析牵涉到IRIS光谱仪所使用的两条狭缝。因此，为了得 到同时测定（因为只有同时测定才能体现出内标法的优点），至 少在每一条狭缝上都应有一条谱线。Vis狭缝最常用的谱线为 Y371.030nm，Uv狭缝谱线为Y224.306nm。在Y224.306nm处 谱线受到来自Cu224.261nm谱线的潜在干扰。 ．按前面所介绍的那样，建立分析方法。必须确保内标元素在本 41 方法中被选择，并确保所有需要的谱线均已选择好（检查是否 已标有标记）。 ．点击Method → Interrial Standards将显示如下图所示的内标元 素对话框。 ．点击Select Interrial Stds，打开元素周期表，选择内标元素及其 谱线。请记住每个狭缝至少应选择一条谱线。 42 ．点击 ．此时内标元素及其谱线自动添加到内标谱线框中。选择并添加 与内标谱线波长范围相对应的谱线。切换波长为：238nm。 ．严格采用相同浓度的内标溶液。 至此内标法建立完成，即可按照常规方法运行标准和样品。 时序扫描 时序扫描通常用于SSEA（固体进样系统）或离子色谱等非常规 的进样系统中。对于SSEA来说，可以通过时序扫描研究不同材料中 各个元素的熔出曲线，从而确定预燃时间和积分时间。在同离子色谱 联用时，通过时序扫描还可以研究和判断不同金属元素洗脱的顺序和 保持的时间。如果正确选择色谱柱，能够测量诸如CrⅢ和CrⅥ等不 同价态的离子。 首先按前面所介绍的那样，建立分析方法。点击Run Time Scan 图标，打开如下对话框： 43 选择所要测定的波长，Uv或Vis；输入样品清洗时间、信号容量 百分比、测定次数、每次测定的时间，点击RUN运行。 得到一条关于时间/强度的曲线，如下图所示： 44 通过设置Gate1和Gate2，可以求得积分面积。点击一阶导数 图标可以使曲线进行切换，如图所示： ， 此图是对于一定浓度的标准溶液而言。对于离子色谱或SSEA 而言，其一阶导数曲线如下图所示。通过一阶导数曲线来判断信号峰 值所对应的时间，或通过设置Gate1和Gate2，求得积分面积，从而 进行定量分析。 45 五、优化分析条件 优化是通过改变仪器的各项参数（主要包括蠕动泵泵夹优化、 雾化气压力、RF功率等），使光强最大而噪声最小，从而得到最好的 分析结果。 蠕动泵泵夹优化 调节步骤如下： 1． 安装泵夹，并使其就位。（最好把全部泵夹都安装好，以免 泵夹倾斜。） 2． 通过等离子体控制面板，设置雾化气压力为：30Psi。 3． 把样品管放入到蒸馏水中，观察蒸馏水流动情况。 46 4． 调节泵夹的压力扳手（前松后紧），使蒸馏水完全停止流动， 再紧一下，这时压力最佳。 5． 调节废液管泵夹，使其压力稍大于或等于样品管压力即可。 （可通过等离子体控制面板设置泵速为100rpm，观察排废 液情况。） 注：泵夹压力设置错误会导致分析质量变差。如果太松，由于 部分样品自由吸入将造成结果漂移；如果太紧，来自泵管 的脉动会使分析精度下降。 雾化气压力优化 雾化气压力决定氩气通过雾化器的速度，直接影响样品引入的 速度和雾化的均匀性。通过调节雾化气压力，使待测元素的灵敏度和 精确度达到最高。 调节步骤如下： 1． 点燃等离子体，稳定15-30分钟。 2． 建立分析方法，导入待测元素的标准溶液。 3． 通过分析方法调节雾化器压力（24-32Psi）,改变一次，测 定一次，观察灵敏度和稳定性的变化。从而确定雾化气压 力，并输入到分析方法中。 RF功率 RF功率的大小直接影响等离子体的温度以及离子化的程度，从 而改变灵敏度和精确度。 调节步骤如下： 47 1． 燃等离子体，稳定15-30分钟。 2． 建立分析方法，导入待测元素的标准溶液。 3． 通过分析方法改变RF功率（950-1350W,增量为50W）,改 变一次，测定一次，把信背比最大的RF功率，作为最佳功 率从输入到分析方法中。 对于IRIS系列仪器来说，通常采用的RF功率为1150W，在极少 数情况下采用1350W，这样可以增强200nm以下谱线的灵敏度，但同 时背景也会增大。对于钾、钠等碱金属而言，950W是不错的选择。 六、添加数据库 1、 启动TEVA软件，选择Tools → Options…. → Application Database，运行Run database wizard… → Create打开如下对 话框： 48 2、 在password位置输入“teva”，点击Test Connection，软件 会提示连接成功，点击OK进行确定。 3、 点击Next，在TEVA Database name位置输入“abc”（自定义） → Finish → No可以不创建Scheme备份。 4、 点击Add a connenction图标： ①. 输入“(local)” ②. Username输入“sa” password输入“teva” ③. Select the database on the server选择“abc” 点击Test Connection → 提示连接成功 → OK → OK。 49 5、在data link file name位置输入“local2”（自定义），点击 OK。 6、在Active connection中选择“local2”，点击Apply → OK。 50 至此，数据库添加完成。
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